Transferring apparatus control means movement of a transferring apparatus
for transferring a wafer to a resist liquid coating unit from a cooling
process unit. A storage section of the transferring apparatus controller
stores a coating time required for a resist film coating and a moving time
required for the transfer of the wafer. When a coating start time of a
resist film is inputted, the control section calculates a coating end time
from the stored coating time. Further, the control section calculates time
of taking out a wafer W, which is next subjected to a coating process from
the cooling process unit, from the coating end time and the stored moving
time. Based on the calculated time, the transferring apparatus controller
instructs the transferring apparatus about timing to take out the wafer.
This makes it possible to improve the throughput.
Перенося управление прибора намеревается движение перенося прибора для переносить вафлю к блоку сопротивлять жидкостному покрывая от охлаждая отростчатого блока. Раздел хранения перенося регулятора прибора хранит покрывая время необходим для покрытия пленки сопротивлять и moving время необходим для перехода вафли. Когда inputted покрывая стартовое временя пленки сопротивлять, раздел управления высчитывает покрывая время конца от, котор хранят покрывая времени. Более потом, раздел управления высчитывает время принимать из вафли ш, которая затем подвергнется к покрывая процессу от охлаждая отростчатого блока, от покрывая времени конца и, котор хранят moving времени. Я основан на высчитанном времени, перенося регулятор прибора инструктирует перенося прибор о приурочивать для того чтобы принять вне вафлю. Это делает его по возможности улучшить throughput.
