An integrated circuit lithography technique called spectral engineering by
Applicants, for bandwidth control of an electric discharge laser. In a
preferred process, a computer model is used to model lithographic
parameters to determine a desired laser spectrum needed to produce a
desired lithographic result. A fast responding tuning mechanism is then
used to adjust center wavelength of laser pulses in a burst of pulses to
achieve an integrated spectrum for the burst of pulses approximating the
desired laser spectrum. The laser beam bandwidth is controlled to produce
an effective beam spectrum having at least two spectral peaks in order to
produce improved pattern resolution in photo resist film. Line narrowing
equipment is provided having at least one piezoelectric drive and a fast
bandwidth detection control system having a time response of less than
about 2.0 millisecond. In a preferred embodiment, a wavelength tuning
mirror is dithered at dither rates of more than 500 dithers per second in
phase with the repetition rate of the laser. In one case, the
piezoelectric drive was driven with a square wave signal and in a second
case it was driven with a sine wave signal. In another embodiment, the
maximum displacement was matched on a one-to-one basis with the laser
pulses in order to produce a desired average spectrum with two peaks for a
series of laser pulses. Other preferred embodiments utilize three separate
wavelength tuning positions producing a spectrum with three separate
peaks.
Une technique de lithographie de circuit intégré a appelé la technologie spectrale par Applicants, pour la commande de largeur de bande d'un laser électrique de décharge. Dans un processus préféré, un modèle d'ordinateur est employé pour modeler des paramètres lithographiques pour déterminer un spectre désiré de laser requis pour produire un résultat lithographique désiré. Un mécanisme d'accord répondant rapide est alors employé pour ajuster la longueur d'onde centrale des impulsions de laser dans un éclat des impulsions pour réaliser un spectre intégré pour l'éclat des impulsions rapprochant le spectre désiré de laser. La largeur de bande de rayon laser est commandée pour produire un spectre efficace de faisceau ayant au moins deux crêtes spectrales afin de produire la résolution améliorée de modèle en photo résistent au film. La ligne rétrécissant l'équipement est fournie en ayant au moins une commande piézoélectrique et un système de commande rapide de détection de largeur de bande ayant une réponse de temps de moins qu'environ 2.0 millisecondes. Dans un mode de réalisation préféré, un miroir d'accord de longueur d'onde est hésité aux taux de transe de plus de 500 transes par seconde dans la phase avec le taux de répétition du laser. Dans un cas, la commande piézoélectrique a été conduite avec un signal carré de vague et dans un deuxième cas elle a été conduite avec un signal de vague de sinus. Dans une autre incorporation, le déplacement maximum a été assorti sur une base linéaire avec les impulsions de laser afin de produire un spectre moyen désiré avec deux crêtes pour une série d'impulsions de laser. D'autres modes de réalisation préférés utilisent trois positions d'accord de longueur d'onde séparée produisant un spectre avec trois crêtes séparées.
