A method for using ammonium fluoride solution in a photoelectrochemical
etching process of a silicon wafer, comprising steps of: placing a wafer
after the pre-etching process into an alcohol solution for activating the
surface of wafer and into an ammonium fluoride solution as an etching
solution; and illuminating the back of wafer with a halogen light and
performing a photoelectrochemical etching process in a potentiostatic.
Un método para usar la solución del fluoruro del amonio en un proceso photoelectrochemical de la aguafuerte de una oblea de silicio, abarcando pasos de: colocando una oblea después del proceso de la pre-aguafuerte en una solución del alcohol para activar la superficie de la oblea y en una solución del fluoruro del amonio como solución de la aguafuerte; e iluminando la parte posteriora de la oblea con una luz del halógeno y realizando un proceso photoelectrochemical de la aguafuerte en un potentiostatic.
