In a light diffuser, a strong light diffusion processing is performed to a
lamp corresponding part located in a vertical immediate downward direction
of each of a plurality of flash lamps, and a weak light diffusion
processing is performed to an inter-lamp corresponding part located
between lamp corresponding parts adjacent to each other. Thereby, the
light transmittance of the lamp corresponding part is lower than that of
the inter-lamp corresponding part. Light that is emitted from each of the
flash lamps and directed to a vertical immediate downward direction is
diffused intensely, while reducing the degree of light diffusion at a
location immediately below space between the adjacent flash lamps, thereby
improving in-plane uniformity of illumination distribution on a
semiconductor wafer. This enables to provide a thermal processing
apparatus capable of improving in-plane uniformity of illumination
distribution on a substrate.
In un diffusore chiaro, un'elaborazione chiara forte di diffusione è realizzata ad una parte corrispondente della lampada situata in un senso in discesa immediato verticale di ciascuna di una pluralità di lampade istantanee e un'elaborazione chiara debole di diffusione è realizzata ad una parte corrispondente della inter-lampada posizionata fra le parti corrispondenti della lampada adiacente a vicenda. Quindi, la trasmissione chiara della parte corrispondente della lampada è più bassa di quella della parte corrispondente della inter-lampada. Illuminisi che è emesso da ciascuna delle lampade istantanee e diretto verso un senso in discesa immediato verticale è diffuso intensamente, mentre riducendo il grado di diffusione chiara ad una posizione immediatamente sotto lo spazio fra le lampade istantanee adiacenti, quindi migliorante uniformità dell'in-aereo di distribuzione di illuminazione su una cialda a semiconduttore. Ciò permette di fornire un thermal che procede l'apparecchio capace di migliorare l'uniformità dell'in-aereo di distribuzione di illuminazione su un substrato.
