Disclosed is a method for fabricating planar light waveguide circuits,
wherein the circuit has a structure that includes a substrate comprised of
a core and under-clad layers, an optical circuit, and a plurality of
arrayed waveguides coupled thereon. More specifically, the method includes
the steps of layering a hard layer on the core layer for forming a mask
pattern of the planar light waveguide circuit; forming the mask pattern on
the hard layer; layering a photoresist layer on a branch of the optical
circuit and the arrayed waveguides of the mask pattern; forming a vertical
taper structure on the photoresist layer using a gray scale mask; and,
etching the core layer using the photoresist layer with the vertical taper
structure and the mask pattern.
Gegeben eine Methode für das Fabrizieren der planaren hellen Wellenleiterstromkreise frei, worin der Stromkreis eine Struktur hat, die ein Substrat einschließt, das von einem Kern und von unter-plattierten Schichten enthalten werden, einen optischen Stromkreis und eine Mehrzahl der gekleideten Wellenleiter, die darauf verbunden werden. Spezifischer, schließt die Methode die Schritte des Überlagerns einer harten Schicht auf der Kernschicht für die Formung einer Maskenvorlage des planaren hellen Wellenleiterstromkreises ein; Formung der Maskenvorlage auf der harten Schicht; Überlagern einer Photoschicht auf einer Niederlassung des optischen Stromkreises und der gekleideten Wellenleiter der Maskenvorlage; Formung einer vertikalen Kegelzapfenstruktur auf der Photoschicht mit einer grauen Skalaschablone; und, die Kernschicht mit der Photoschicht mit der vertikalen Kegelzapfenstruktur und der Maskenvorlage ätzend.
