A method for revising a patterned conductor layer and a system for revising
the patterned conductor layer employ an unoccupied equivalent wiring
location. The unoccupied equivalent wiring location is provided in each of
a series of wiring layout records. At least one optional wiring pattern
may be formed in the unoccupied equivalent wiring location. The method and
system provide for extending to all of the series of wiring layout records
an optional wiring pattern and an interconnect option formed within a
single one of the series of wiring layout records.
Метод для корректировать сделанный по образцу слой проводника и система для корректировать сделанный по образцу слой проводника используют unoccupied соответствующее положение проводки. Unoccupied соответствующее положение проводки обеспечено в каждой из серии показателей плана проводки. По крайней мере одна опционная картина проводки может быть сформирована в unoccupied соответствующем положении проводки. Метод и система обеспечивают для удлинять к всей из серии показателей плана проводки опционную картину проводки и вариант interconnect сформировал в пределах одиночное одной из серии показателей плана проводки.
