A deposition mask capable of relaxing nonuniformity of the thickness of a
deposit formed on a substrate and reducing the width of a non-opening part
of a mask layer by reducing the thickness of the mask layer is obtained.
This deposition mask comprises a mask layer formed by a single silicon
thin film and a mask pattern, formed on the mask layer, including a mask
opening having an opening width increased toward a deposition source. The
mask layer formed by a silicon thin film can be reduced in thickness due
to small deflection caused by its own weight. Thus, the width of the
non-opening part of the mask layer can be reduced, whereby the width of a
part formed with no deposit can be reduced. The mask opening having the
opening width increased toward the deposition source reduces the
probability of deposit particles, obliquely scattered from the deposition
source, hitting an end of the mask opening, whereby the deposit is
prevented from being reduced in thickness on an end corresponding to the
end of the mask opening as well as from nonuniformity of the thickness.
Uma máscara do deposition capaz de relaxar o nonuniformity da espessura de um depósito dado forma em uma carcaça e de reduzir a largura de uma peça da non-abertura de uma camada da máscara reduzindo a espessura da camada da máscara é obtida. Esta máscara do deposition compreende uma camada da máscara dada forma por uma película fina do único silicone e um teste padrão de máscara, dado forma na camada da máscara, including uma abertura da máscara que tem uma largura da abertura aumentada para uma fonte do deposition. A camada da máscara dada forma por uma película fina do silicone pode ser reduzida na espessura devido à deflexão pequena causada por seu próprio peso. Assim, a largura da peça da non-abertura da camada da máscara pode ser reduzida, por meio de que a largura de uma peça dada forma com nenhum depósito pode ser reduzida. A abertura da máscara que tem a largura da abertura aumentada para a fonte do deposition reduz a probabilidade de partículas do depósito, dispersada obliquely da fonte do deposition, batendo um fim da abertura da máscara, por meio de que o depósito é impedido de ser reduzido na espessura em uma extremidade que corresponde ao fim da abertura da máscara as.well.as do nonuniformity da espessura.
