An optical system, in particular an exposure lens for semiconductor
lithography, with a plurality of optical elements has at least one
load-dissipating structure. The load-dissipating structure diverts the
forces originating from the optical elements. The optical system also has
a measuring structure constructed independently of the at least one
load-dissipating structure.
Um sistema ótico, no detalhe uma lente da exposição para o lithography do semicondutor, com um plurality de elementos óticos tem ao menos uma estrutura carga-dissipando-se. A estrutura carga-dissipando-se desvía as forças que originam dos elementos óticos. O sistema ótico tem também uma estrutura de medição construída independentemente da ao menos uma estrutura carga-dissipando-se.
