A reflectometer device for determining the quality characteristics of an
electronic chip mask blank utilizing a source of electromagnetic radiation
in the extreme ultraviolet region. The source is passed to a monochrometer
which includes a mirror, a rotatable grating, and an exit slit. The
radiation travels to the mirror and is reflected to the grating which, in
turn, provides a source of electromagnetic radiation which is essentially
continuous and of a particular bandwidth. The grating is rotated to tune
such source of electromagnetic radiation which is passed to the subject
blank mask. Upon reflection from the mask, a detector determines the
intensity of the reflected beam from the mask and translates such
measurement into a determination of reflectivity.
Приспособление рефлектометра для обусловливать характеристики качества электронного пробела маски обломока используя источник электромагнитного излучения в весьма ультрафиолетов зоне. Источник передан к monochrometer вклюает зеркало, ротатабельную решетку, и разрез выхода. Радиация перемещает к зеркалу и отражена к решетке, в свою очередь, обеспечивает источник электромагнитного излучения которое необходимо непрерывно и определенной ширины полосы частот. Решетка вращана для того чтобы настроить такой источник электромагнитного излучения передано к subject пустой маске. На отражении от маски, детектор обусловливает интенсивность отраженного луча от маски и переводит такое измерение в определение отражательной способности.
