An exposure apparatus for performing exposure of patterns of a reticle onto
a substrate includes a first housing covering an optics space containing
members of an optical system of an optical path of exposing light, a
second housing covering a drive space containing driving members, which
adjoins the optics space, members transparent to exposing light provided
at boundaries of the adjacent first and second housings, a gas supplier
which supplies the interior of the first and second housings with a
purging gas, pressure sensors which sense pressures inside respective ones
of the first and second housings, and a control unit which controls the
gas supplier on the basis of outputs from the pressure sensors in such a
manner that pressures within the respective first and second housings will
attain respective ones of predetermined pressures.
Un'apparecchiatura per l'esposizione per realizzare l'esposizione dei modelli di un reticolo su un substrato include un primo alloggiamento che riguarda uno spazio di ottica che contiene i membri di un sistema ottico di un percorso ottico di esporre la luce, un secondo alloggiamento che riguarda uno spazio dell'azionamento che contiene guidando i membri, che congiunge lo spazio di ottica, membri trasparenti ad esporre la luce fornita ai contorni del primi adiacente e secondi alloggiamenti, un fornitore del gas che fornisce all'interiore del primo e secondi alloggiamenti un gas d'eliminazione dell'inceppo, pressione sensori che percepiscono le pressioni all'interno di quelle rispettive del prime e secondi alloggiamenti e un'unità di controllo che controlla il fornitore del gas in base alle uscite dai sensori di pressione in maniera tale che le pressioni all'interno dei primi e secondi alloggiamenti rispettivi raggiungano quelle rispettive delle pressioni predeterminate.
