An electron beam physical vapor deposition (EBPVD) apparatus and a method
for using the apparatus to produce a coating material (e.g., a ceramic
thermal barrier coating) on an article. The EBPVD apparatus generally
includes a coating chamber that is operable at elevated temperatures and
subatmospheric pressures. An electron beam gun projects an electron beam
into the coating chamber and onto a coating material within the chamber,
causing the coating material to melt and evaporate. An article is
supported within the coating chamber so that vapors of the coating
material deposit on the article. The operation of the EBPVD apparatus is
enhanced by the inclusion or adaptation of one or more mechanical and/or
process modifications, including those necessary or beneficial when
operating the apparatus at coating pressures above 0.010 mbar.
Een het deposito (EBPVD) apparaat van de elektronenstraal fysiek damp en een methode om de apparaten te gebruiken om een deklaagmateriaal (b.v., een ceramische thermische barrièredeklaag) op een artikel te produceren. Het apparaat EBPVD omvat over het algemeen een deklaagkamer die bij opgeheven temperaturen en subatmospheric druk opereerbaar is. De projecten van een elektronenstraalkanon een elektronenstraal in de deklaagkamer en op een deklaagmateriaal binnen de kamer, die het deklaagmateriaal veroorzaakt om te smelten en te verdampen. Een artikel wordt gesteund binnen de deklaagkamer zodat dampen van de deklaag materiële storting op het artikel. De verrichting van de apparaten EBPVD wordt verbeterd door de opneming of de aanpassing van één of meerdere mechanische en/of proceswijzigingen, met inbegrip van die noodzakelijk of voordelig wanneer het in werking stellen van de apparaten bij het met een laag bedekken van druk boven 0,010 mbar.
