A copolymer of an acrylic monomer having at least one C.sub.6-20 alicyclic
structure with a norbornene derivative or styrene monomer having a
hexafluoroalcohol pendant is highly transparent to VUV radiation and
resistant to plasma etching. A resist composition using the polymer as a
base resin is sensitive to high-energy radiation below 200 nm, has
excellent sensitivity, transparency and dry etching resistance, and is
suited for lithographic microprocessing.
Een copolymeer van een acrylmonomeer dat minstens één alicyclische structuur c.sub.6-20 met een van het norbornenederivaat of styreen monomeer heeft dat een hexafluoroalcoholtegenhanger heeft is hoogst transparant en bestand aan VUV straling tegen plasma ets. Verzet me tegen samenstelling gebruikend het polymeer aangezien een basishars gevoelig voor high-energy straling onder 200 NM is, uitstekende gevoeligheid, transparantie en droge etsweerstand heeft, en geschikt voor lithografische microverwerking is.
