A chirped Bragg grating is fabricated in an optical fiber by exposing the
fiber to a coherent beam of light through a parallel phase mask having a
series of progressively chirped segments produced on a lithography tool.
The chirped phase mask is fabricated by exposing a photoresist-coated
substrate to an image writing element such as an electron beam or a laser
according to a set of parameters provided to the lithography tool. The
parameters include a basic grating pattern for each segment, a value that
defines the expansion or contraction of the grating pattern and an axis
location to which the grating pattern is to be written to the substrate.
By selecting machine commands that implement these parameters with a
minimum throughput overhead, the mask can be produced in a reduced time,
and therefore with increased accuracy.
Una grata striduta di Bragg è fabbricata in una fibra ottica esponendo la fibra ad un fascio luminoso coerente attraverso una mascherina parallela di fase che ha una serie di segmenti progressivamente striduti prodotti su un attrezzo di litografia. La mascherina striduta di fase è fabbricata esponendo un substrato photoresist-rivestito ad un elemento di scrittura di immagine quali un fascio elettronico o un laser secondo un insieme dei parametri forniti all'attrezzo di litografia. I parametri includono un modello stridente di base per ogni segmento, un valore che definisce l'espansione o la contrazione del modello stridente e di una posizione di asse a cui il modello stridente deve essere scritto al substrato. Selezionando la macchina comanda che lo strumento questi parametri con un rendimento minimo lassù, la mascherina può essere prodotto in un tempo ridotto e quindi con esattezza aumentata.
