Microoptical systems with clear aperture of about one millimeter or less
are fabricated from a layer of photoresist using a lithographic process to
define the optical elements. A deep X-ray source is typically used to
expose the photoresist. Exposure and development of the photoresist layer
can produce planar, cylindrical, and radially symmetric micro-scale
optical elements, comprising lenses, mirrors, apertures, diffractive
elements, and prisms, monolithically formed on a common substrate with the
mutual optical alignment required to provide the desired system
functionality. Optical alignment can be controlled to better than one
micron accuracy. Appropriate combinations of structure and materials
enable optical designs that include corrections for chromatic and other
optical aberrations. The developed photoresist can be used as the basis
for a molding operation to produce microoptical systems made of a range of
optical materials. Finally, very complex microoptical systems can be made
with as few as three lithographic exposures.
Des systèmes de Microoptical avec l'ouverture claire d'environ un millimètre ou de moins sont fabriqués d'une couche de vernis photosensible en utilisant un processus lithographique pour définir les éléments optiques. Une source profonde de rayon X est typiquement employée pour exposer le vernis photosensible. L'exposition et le développement de la couche de vernis photosensible peuvent produire les éléments optiques de micro-échelle planaire, cylindrique, et radialement symétrique, comportant des objectifs, miroirs, ouvertures, éléments diffractifs, et prismes, monolithiquement formés sur un substrat commun avec l'alignement optique mutuel exigé pour fournir la fonctionnalité désirée de système. L'alignement optique peut être commandé pour améliorer qu'une exactitude de micron. Les combinaisons appropriées de la structure et des matériaux permettent les conceptions optiques qui incluent des corrections pour chromatique et d'autres aberrations optiques. Le vernis photosensible développé peut être employé comme base pour une opération de bâti pour produire les systèmes microoptical faits d'une gamme des matériaux optiques. En conclusion, des systèmes microoptical très complexes peuvent être faits avec seulement trois expositions lithographiques.
