Device for performing a parametric process, comprising a substantially
periodic photonic crystal structure comprising a plurality of unitary
cells each comprising
a first layer having a first refractive index n1 and a first length L1,
a second layer having a second refractive index n2, with n1 different from
n2, and a second length L2,
a third layer having a third refractive index n3, with n3 different from
n2, and a third length L3 and
a fourth layer having a fourth refractive index n4, with n4 different from
n1 and from n3, and a fourth length L4,
wherein
at least one among the first, the second, the third and the fourth layers
has a non-linearity of the .chi..sub.2 or .chi..sub.3 type;
at least one of the following conditions is met:
a) n1 is different from n3;
b) n2 is different from n4;
c) L1 is different from L3;
d) L2 is different from L4; and
n1, n2, n3, n4, L1, L2, L3, L4 have such values as to perform the
parametric process in phase matching conditions.
Приспособление для выполнять параметрический процесс, состоя из существенн периодической photonic кристаллической структуры состоя из множественности унитарных клеток каждого состоя из первого слоя имея первый рефрактивный индекс n1 и первую длину L1, второй слой имея второй n2 рефрактивного индекса, с n1 отличающимся от n2, и второй длиной L2, третьим слоем имея третий рефрактивный индекс n3, с n3 отличающимся от n2, и третья длина L3 и четвертый слой имея четвертый рефрактивный индекс n4, с n4 отличающимся от n1 и от n3, и четвертой длины L4, при котором по крайней мере одно среди первого, секунда, треть и четвертые слои имеют нелинейность типа chi..sub.2 или chi..sub.3; по крайней мере одно из following условий соотвествовано: a) n1 отличает n3; b) n2 отличает n4; c) L1 отличает L3; d) L2 отличает L4; и n1, n2, n3, n4, L1, L2, L3, L4 имеют такие значения о выполнить параметрический процесс в участка сопрягать условиях.