A method is proposed for vacuum-coating a substrate using a plasma-CVD
method. In order to control ion bombardment during the vacuum coating, a
substrate voltage, produced independently from a coating plasma, is
applied to the substrate. The substrate voltage is modified during the
coating. The substrate voltage is a direct voltage that is pulsed in
bipolar fashion with a frequency of 0.1 kHz to 10 MHz. A wear-resistant
and friction-reducing multilayer structure of alternating hard material
individual layers and carbon or silicon individual layers is proposed.
Um método é proposto vácuo-revestindo uma carcaça usando um método de plasma-CVD. A fim controlar o bombardeio do íon durante o revestimento do vácuo, uma tensão da carcaça, produzida independentemente de um plasma revestindo, é aplicada à carcaça. A tensão da carcaça é modificada durante o revestimento. A tensão da carcaça é uma tensão direta que seja pulsada na forma bipolar com uma freqüência de 0.1 quilohertz a 10 megahertz. Uma estrutura multilayer wear-resistant e fricção-reduzindo-se de alternar camadas individuais materiais duras e camadas individuais do carbono ou do silicone é proposta.
