Surface mount electrolytic capacitors are provided with anode and cathode
terminations having respective first termination portions provided on the
bottom surface of a molded package in a generally coplanar configuration.
A second cathode termination portion is bent in a generally perpendicular
fashion to the first cathode termination portion and may then be adhered
to the external cathode layer of a capacitor body. A second anode
termination portion is bent in a generally perpendicular fashion to the
first anode termination portion and may then be welded to an anode wire
connected to and extending from the capacitor body. An insulation pad may
be provided between the first anode termination portion and the capacitor
body to prevent device shorting. A planar termination frame may be
provided to form the electrolytic capacitors of the present subject
matter. Additional embodiments of the disclosed technology include
additional termination portions to effect wrap-around surface-mount anode
and cathode terminations.
Η επιφάνεια τοποθετεί τους ηλεκτρολυτικούς πυκνωτές παρέχεται τις λήξεις ανόδων και καθόδων που έχουν τις αντίστοιχες πρώτες μερίδες λήξης παρασημένων στην κατώτατη επιφάνεια μιας φορμαρισμένης συσκευασίας σε μια γενικά συνεπίπεδη διαμόρφωση. Μια δεύτερη μερίδα λήξης καθόδων κάμπτεται σε μια γενικά κάθετη μόδα στην πρώτη μερίδα λήξης καθόδων και μπορεί έπειτα να υιοθετηθεί στο εξωτερικό στρώμα καθόδων ενός σώματος πυκνωτών. Μια δεύτερη μερίδα λήξης ανόδων κάμπτεται σε μια γενικά κάθετη μόδα στην πρώτη μερίδα λήξης ανόδων και μπορεί έπειτα να ενωθεί στενά σε ένα καλώδιο ανόδων που συνδέεται με και που επεκτείνεται από το σώμα πυκνωτών. Ένα μαξιλάρι μόνωσης μπορεί να παρασχεθεί μεταξύ της πρώτης μερίδας λήξης ανόδων και του σώματος πυκνωτών για να αποτρέψει συσκευών. Ένα επίπεδο πλαίσιο λήξης μπορεί να παρασχεθεί για να διαμορφώσει τους ηλεκτρολυτικούς πυκνωτές του παρόντος περιεχομένου. Οι πρόσθετες ενσωματώσεις της αποκαλυπτόμενης τεχνολογίας περιλαμβάνουν τις πρόσθετες μερίδες λήξης στις wrap-around λήξεις ανόδων και καθόδων επιφάνεια-υποστηριγμάτων επίδρασης.
