A position detection apparatus for detecting a position of a pattern
includes a first sensing system which senses a first image of the pattern
at a first magnification, a second sensing system which senses a second
image of the pattern at a second magnification higher than the first
magnification, and a determination system which determines whether a
relative position between the second sensing system and the pattern is
valid for detecting a position of the pattern based on the first image
sensed by the first sensing system.
Een apparaat van de positieopsporing om een positie van een patroon te ontdekken omvat een eerste ontdekkend systeem dat de betekenissen een eerste beeld van het patroon bij een eerste vergroting, een tweede ontdekkend systeem die betekenissen een tweede beeld van het patroon bij een tweede vergroting hoger dan de eerste vergroting, en een bepalingssysteem dat bepaalt of een relatieve positie tussen het tweede ontdekkende systeem en het patroon voor het ontdekken van een positie van het patroon geldig is op het eerste beeld dat door het eerste ontdekkende systeem wordt ontdekt baseerden.
