A scanning exposure apparatus is provided that is capable of increasing the
overlay accuracy. Every time a reticle is exchanged, a direction overlay
correction table is updated. A control device for the exposure apparatus
corrects the target positions (target locus) of a wafer stage on the basis
of the direction overlay correction table.
Ein Abtastungbelichtung Apparat ist, vorausgesetzt daß zur Erhöhung der Testblattgenauigkeit fähig ist. Jedesmal wenn ein Reticle ausgetauscht wird, ist eine Richtung Testblatt-Korrekturtabelle aktualisiert. Eine Steuervorrichtung für den Belichtung Apparat behebt die Zielpositionen (Zielort) eines Oblatestadiums auf der Grundlage von die Richtung Testblatt-Korrekturtabelle.
