An apparatus for processing and observing a sample has a sample stage for
supporting a sample at a preselected location thereof, a focused ion beam
irradiation system for irradiating the sample with a focused ion beam
along an optical axis to cut out a portion from the sample, and a side
entry stage disposed over the sample stage and extending slantingly with
respect to the optical axis of the focused ion beam irradiated by the
focused ion beam irradiation system. The side entry stage has a microscope
sample holder for picking up the cut-out sample portion directly from the
preselected location of the sample and for supporting the sample portion.
The microscope sample holder is configured to be removed from the side
entry stage while supporting the sample portion and to be connected to an
entry stage of a microscope device for observing the sample portion.
Un aparato para procesar y observar una muestra tiene una etapa de la muestra para apoyar una muestra en una localización pre-seleccion de eso, un sistema enfocado de la irradiación de la viga de ion para irradiar la muestra con una viga de ion enfocada a lo largo de un eje óptico para cortar una porción de la muestra, y una etapa lateral de la entrada dispuesta sobre la etapa de la muestra y extender slantingly con respecto al eje óptico de la viga de ion enfocada irradiada por el sistema enfocado de la irradiación de la viga de ion. La etapa lateral de la entrada tiene un sostenedor de la muestra del microscopio para escoger encima de la porción de la muestra del recorte directamente de la localización pre-seleccion de la muestra y para apoyar la porción de la muestra. El sostenedor de la muestra del microscopio se configura para ser quitado de la etapa lateral de la entrada mientras que apoya la porción de la muestra y para ser conectado con una etapa de la entrada de un dispositivo del microscopio para observar la porción de la muestra.
