Method for real-time control of the fabrication of a thin-film structure
comprising a substrate by ellipsometric measurement in which:
variables directly linked to the ellipsometric ratio .rho.=tan.PSI.
exp(i.DELTA.) are measured; and
the said variables are compared with reference values. The comparison
relates to the length of the path traveled at a time t in the plane of the
variables with respect to an initial point at time t.sub.0, for each layer
participating in the thin-film structure.
Méthode pour la commande en temps réel de la fabrication d'une structure en couche mince comportant un substrat par la mesure ellipsometric dans laquelle : les variables ont directement lié au rho.=tan.PSI ellipsometric de rapport. exp(i.DELTA.) sont mesurés ; et lesdites variables sont comparées aux valeurs de référence. La comparaison se relie à la longueur du chemin a voyagé à la fois t dans le plan des variables en ce qui concerne un premier point à l'heure t.sub.0, pour chaque couche participant à la structure en couche mince.
