A lithography tool includes an exposure chamber and a reticle handler that
exchanges a reticle being exposed as prescribed by the user of the
lithography tool. The reticle handler can include a vacuum-compatible
robot, a vacuum chamber to house the robot, a load-lock to input reticles
and transition them from atmospheric pressure to vacuum, a processing
station for processing the reticle, and a reticle library for storing at
least one extra reticle so that it is quickly available for exchange
during an exposure process. The robot can have a two or more handed
gripper to simultaneously hold multiple reticles. This allows a first
reticle to be removed from the reticle stage with a first hand and a
second reticle to be loaded onto the reticle stage with a second hand,
and so on, which minimizes exchange time.
Uma ferramenta do lithography inclui uma câmara da exposição e um alimentador do reticle que troque um reticle que está sendo exposto como prescrito pelo usuário da ferramenta do lithography. O alimentador do reticle pode incluir um robô vácuo-compatível, uma câmara do vácuo para abrigar o robô, um carga-fechamento para input reticles e transição eles da pressão atmosférica vacuum, uma estação processando para processar o reticle, e uma biblioteca do reticle para armazenar em menos reticle um extra assim que está rapidamente disponível para a troca durante um processo da exposição. O robô pode mandar uns dois ou mais prendedores entregues a simultaneamente prender reticles múltiplos. Isto permite que um primeiro reticle seja removido do estágio do reticle com uma primeira mão e um segundo reticle a ser carregados no estágio do reticle com uma segunda mão, e assim por diante, que minimize o tempo de troca.
