A stamper/imprinter for use in performing thermal imprint lithography of a
substrate/workpiece surface to form a pattern of features in first
portions of the surface intended to receive the pattern, without incurring
random formation of undesired, disordered features in second portions of
the substrate/workpiece surface not intended to receive the pattern,
comprising an imprinting surface configured to substantially prevent
formation of gaps between the imprinting surface and the second portions
of the surface during stamping/imprinting. Embodiments include
stampers/imprinters with a multilevel imprinting surface comprises a first
portion having a first level for forming the pattern of features in the
first portions of the surface and a second portion having a second level
for substantially preventing formation of gaps between the imprinting
surface and the second portions of the surface during stamping/imprinting.
Stamper/$l*imprinter για τη χρήση στην εκτέλεση της θερμικής λιθογραφίας σφραγίδων μιας επιφάνειας υποστρωμάτων/κομματιών προς κατεργασία για να διαμορφώσει ένα σχέδιο των χαρακτηριστικών γνωρισμάτων στις πρώτες μερίδες της επιφάνειας που προορίζεται για να λάβει το σχέδιο, χωρίς να υποστεί τον τυχαίο σχηματισμό των ανεπιθύμητων, διαταραγμένων χαρακτηριστικών γνωρισμάτων στις δεύτερες μερίδες του υποστρώματος/της επιφάνειας κομματιών προς κατεργασία που δεν προορίζεται για να λάβει το σχέδιο, που περιλαμβάνει μια επιφάνεια αποτύπωσης που διαμορφώνεται για να αποτρέψει ουσιαστικά το σχηματισμό των χασμάτων μεταξύ της επιφάνειας αποτύπωσης και των δεύτερων μερίδων της επιφάνειας κατά τη διάρκεια της σφράγισης/αποτύπωση των ενσωματώσεων περιλαμβάνει stampers/ta imprinters με μια πολλαπλής στάθμης επιφάνεια αποτύπωσης περιλαμβάνει μια πρώτη μερίδα που έχει ένα πρώτο επίπεδο για τη διαμόρφωση του σχεδίου των χαρακτηριστικών γνωρισμάτων στις πρώτες μερίδες της επιφάνειας και μιας δεύτερης μερίδας αθε το φορμ α παττερν οφ φεατuρες ην φηρστ πορτηονς οφ τχε σuρφαθε ηντενδεδ το ρεθεηβε τχε παττερν, ωητχοuτ ηνθuρρηνγ ρανδομ φορματηον οφ uνδεσηρεδ, δησορδερεδ φεατuρες ην σεθονδ πορτηονς οφ τχε σuψστρατε/ωορκπηεθε σuρφαθε νοτ ηντενδεδ το ρεθεηβε τχε παττερν, θομπρησηνγ αν ημπρηντηνγ σuρφαθε θονφηγuρεδ το σuψσταντηαλλυ πρεβεντ φορματηον οφ γαπς ψετωεεν τχε ημπρηντηνγ σuρφαθε ανδ τχε σεθονδ πορτηονς οφ τχε σuρφαθε δuρηνγ σταμπηνγ/ημπρηντηνγ. Εμψοδημεντς ηνθλuδε σταμπερς/ημπρηντερς ωητχ α μuλτηλεβελ ημπρηντηνγ σuρφαθε θομπρησες α φηρστ πορτηον χαβηνγ α φηρστ λεβελ φορ φορμηνγ τχε παττερν οφ φεατuρες ην τχε φηρστ πορτηονς οφ τχε σuρφαθε ανδ α σεθονδ πορτηον χαβηνγ α σεθονδ λεβελ φορ σuψσταντηαλλυ πρεβεντηνγ φορματηον οφ γαπς ψετωεεν τχε αποτύπωση της επιφάνειας και των δεύτερων μερίδων της επιφάνειας κατά τη διάρκεια της σφράγισης/αποτύπωση.
