In a lithographic apparatus having a movable object table in vacuum, an
interferometer-based alignment system for detecting the position of that
object table has a passive part in vacuum and an active part outside the
vacuum chamber. The active part contains the beam generator, e.g. a laser,
and the electronic detectors whilst the passive part contains the
illumination and imaging optics. The two parts are coupled by optical
fibers. The interferometer may make use of different diffraction orders
from measurement and reference gratings and the order separation may be
included in the passive part.
In einem lithographischen Apparat, der eine bewegliche Gegenstandtabelle im Vakuum hat, hat ein Interferometer-gegründetes Ausrichtung System für das Ermitteln der Position dieser Gegenstandtabelle ein passives Teil im Vakuum und ein aktives Teil außerhalb des Vakuumraumes. Das aktive Teil enthält den Lichtstrahlgenerator, z.B. einen Laser und die elektronischen Detektoren, während das passive Teil die Ablichtung und Belichtung Optik enthält. Die zwei Teile werden durch optische Fasern verbunden. Das Interferometer kann unterschiedliche Beugungaufträge vom Maß gebrauchen und Bezugsvergitterungen und die Auftrag Trennung können im passiven Teil eingeschlossen werden.
