A manufacturing method of a thin film apparatus, includes: a first step for
forming a separation layer on a heat resistant substrate; a second step
for forming a thin film device on the separation layer; a third step for
providing a surface layer on the thin film device; and a fourth step for
generating a peeling phenomenon at the interface of the separation layer
and the heat resistant substrate so as to peel the heat resistant
substrate from a side of the thin film device.
Μια μέθοδος κατασκευής μιας συσκευής λεπτών ταινιών, περιλαμβάνει: ένα πρώτο βήμα για τη διαμόρφωση ενός στρώματος χωρισμού σε ένα ανθεκτικό υπόστρωμα θερμότητας ένα δεύτερο βήμα για τη διαμόρφωση μιας συσκευής λεπτών ταινιών στο στρώμα χωρισμού ένα τρίτο βήμα για την παροχή ενός στρώματος επιφάνειας στη συσκευή λεπτών ταινιών και ένα τέταρτο βήμα για την παραγωγή ενός φαινομένου αποφλοίωσης στη διεπαφή του στρώματος χωρισμού και του ανθεκτικού υποστρώματος θερμότητας ώστε να ξεφλουδιστεί το ανθεκτικό υπόστρωμα θερμότητας από μια πλευρά της συσκευής λεπτών ταινιών.
