This application discloses a system for depositing a magnetic film for a
magnetic recording layer or depositing an underlying film prior to
depositing a magnetic film as a recording layer. The system comprises; a
chamber in which the film is deposited onto a substrate by sputtering, a
target that is provided in the chamber and made of material of the film to
be deposited, a sputter power source for applying voltage to the target
for the sputtering, and a direction control member for controlling
sputter-particles released from the target during the sputtering. The
direction control member is provided between the substrate and the target.
The direction control member provides a passage for the sputter-particles.
The direction control member lets the sputter-particles selectively pass
through, thereby allowing magnetic anisotropy to the magnetic film. The
passage is not close but open in its cross section.
Questa applicazione rileva un sistema per depositare una pellicola magnetica per uno strato magnetico della registrazione o depositare una pellicola di fondo prima del depositare una pellicola magnetica come strato della registrazione. Il sistema contiene; un alloggiamento in cui la pellicola è depositata su un substrato polverizzando, un obiettivo che è fornito nell'alloggiamento ed è fatto di materiale della pellicola da depositare, una fonte di energia di polverizzazione per l'applicazione della tensione all'obiettivo per la polverizzazione e un membro di controllo di senso per le polverizz-particelle di controllo si sono liberati dall'obiettivo durante la polverizzazione. Il membro di controllo di senso è fornito fra il substrato e l'obiettivo. Il membro di controllo di senso fornisce un passaggio per le polverizz-particelle. Il membro di controllo di senso lascia selettivamente le polverizz-particelle passare attraverso, quindi permettendo l'anisotropia magnetica alla pellicola magnetica. Il passaggio non è vicino ma si apre nella relativa sezione trasversale.
