A pattern structure has at least two different color filter elements
disposed one beside the other on a carrier substrate. Each element
includes a layer of dielectric material, the layer of dielectric material
residing at at least one of the filter elements on a layer of a material
that is resistant to activated oxygen or activated water. The layer of
resistant material has a second surface pointing toward the substrate and
is made of silicon or silicon dioxide.
Eine Musterstruktur hat mindestens zwei unterschiedliche Farbe Filterelemente abschuf ein neben dem anderen auf einem Fördermaschinesubstrat. Jedes Element schließt eine Schicht dielektrisches Material ein, die Schicht des dielektrischen Materials liegend an einem mindestens der Filterelemente auf einer Schicht eines Materials, das gegen aktivierten Sauerstoff oder aktiviertes Wasser beständig ist. Die Schicht des beständigen Materials hat eine zweite Oberfläche, in Richtung zum Substrat zu zeigen und wird vom Silikon oder vom Silikondioxid gebildet.
