Projection lens and microlithographic projection exposure apparatus

   
   

A projection exposure apparatus for microlithography has a light source, an illumination system, a mask-positioning system and a projection lens. The latter has a system aperture plane and an image plane and contains at least one lens that is made of a material which has a birefringence dependent on the transmission angle. The exposure apparatus further has an optical element, which has a position-dependent polarization-rotating effect or a position-dependent birefringence. This element, which is provided close to a pupil plane of the projection exposure apparatus, compensates at least partially for the birefringent effects produced in the image plane by the at least one lens.

Un appareillage d'exposition de projection pour le microlithography a une source lumineuse, un système de flash, un système depositionnement et un objectif de projection. Le dernier a un avion d'ouverture de système et un avion d'image et contient au moins un objectif qui est fait d'un matériel qui a une personne à charge de biréfringence sur l'angle de transmission. L'appareillage d'exposition autre a un élément optique, qui a un effet polarisation-tournant position-dépendant ou une biréfringence position-dépendante. Cet élément, qui est fourni près d'un plan de pupille de l'appareillage d'exposition de projection, compense au moins partiellement les effets biréfringents produits dans l'avion d'image par l'au moins un objectif.

 
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