In order to perform a measurement operation of a pattern and a processing
operation in parallel while the positions of two substrate stages are
accurately measured and wire/hose units are prevented from becoming
tangled, a substrate processing apparatus includes an alignment system for
measuring the pattern arrangements of the substrates, a processing system
disposed separately from the alignment system and used for processing the
substrates, substrate stages which are able to support the substrates and
move in an xy plane, and position measurement systems which measure the
positions of the substrate stages. Four position measurement systems are
arranged for the measurement in the x direction, and three position
measurement systems are arranged for the measurement in the y direction.
One of the position measurement systems for the measurement in the y
direction is disposed at a side opposite to the remaining positioning
measurement systems across the substrate stages.
Для того чтобы выполнить деятельность измерения картины и обрабатывая деятельность параллельно пока положения 2 этапов субстрата точно измерены и блоки wire/hose предотвращены от быть запутаны, субстрат обрабатывая прибор вклюает систему выравнивания для измерять расположения картины субстратов, системы обработки размещанный отдельно от системы выравнивания и использованный для обрабатывать субстраты, этапы субстрата которые могут поддержать субстраты и двинуть в плоскости xy, и располагает системы измерения которые измеряют положения этапов субстрата. 4 системы измерения положения аранжированы для измерения в направлении х, и 3 системы измерения положения аранжированы для измерения в направлении ы. Одна из систем измерения положения для измерения в направлении ы размещано на стороне напротив остальных располагая систем измерения через этапы субстрата.
