A microlithographic projection illumination system has a focus-detection
system for optically detecting deviations of the image plane of a
projection lens from the upper surface of a substrate arranged in the
vicinity of its image plane. The focus-detection system has a system for
coupling in at least one measuring beam that is obliquely incident on, and
to be reflected at, the substrate surface into an intermediate zone
between the final optical surface of the imaging system and the substrate
surface and a system for coupling out the measuring beam and detecting it
following its reflection at the substrate surface. The system for coupling
the measuring beam in and the system for coupling it out are configured
such that the measuring beam is reflected at least once at the substrate
surface and at least once at a reflecting surface of the imaging system
that reflects the light employed for measurement purposes before the
measuring beam enters the system for coupling it out, which allows
employing the image side of the imaging system as part of the
focus-detection system. The focus-detection system also operates reliably
when used on ultrahigh-aperture lenses that have correspondingly short
working distances.
Een microlithographic systeem van de projectieverlichting heeft een nadruk-opsporing systeem om afwijkingen van het beeldvliegtuig van een projectielens van de hogere oppervlakte van een substraat optisch te ontdekken dat in de buurt van zijn beeldvliegtuig wordt geschikt. Heeft het nadruk-opsporing systeem een systeem om in minstens één metend straal die schuin inherent is, en om bij, de substraatoppervlakte te koppelen in een middenstreek tussen de definitieve optische oppervlakte van het weergavesysteem en de substraatoppervlakte en een systeem worden nagedacht om de metende straal uit te koppelen en het te ontdekken na zijn gedachtengang aan de substraatoppervlakte. Het systeem om de metende straal te koppelen binnen en het systeem om te koppelen worden het uit gevormd dusdanig dat de metende straal minstens eens aan de substraatoppervlakte en minstens eens aan een nadenkende oppervlakte van het weergavesysteem wordt weerspiegeld dat op het licht wijst dat voor metingsdoeleinden wordt aangewend alvorens de metende straal het systeem ingaat om het te koppelen uit, die toestaat aanwendend de beeldkant van het weergavesysteem als deel van het nadruk-opsporing systeem. Werkt het nadruk-opsporing systeem ook wanneer betrouwbaar gebruikt op ultrahoog-openingslenzen die navenant korte het werk afstanden hebben.
