A pattern inspection apparatus determines a difference of the measured
dislocation of respective alignment marks of an opaque pattern and a phase
shifting pattern (measurement difference), in addition to a difference
between the both alignment mark positions in design (design difference). A
difference between the measurement difference and the design difference is
set as a difference in alignment mark position between the opaque pattern
and the phase shifting pattern in a reference pattern which is later used
in inspection. In this manner, by correcting one pattern data with respect
to the other pattern data in the reference pattern, the displacement
generated in the both patterns can be reflected, and the reference pattern
data regarding an image of a sample which is actually observed can be
created.
Ein Musterkontrolle Apparat stellt einen Unterschied der gemessenen Verschiebung der jeweiligen Vorschubzeichen eines undurchlässigen Musters und des Phase Verschiebung Musters (Maßunterschied), zusätzlich zu einem Unterschied zwischen den beiden Vorschubzeichenpositionen im Design fest (Designunterschied). Ein Unterschied zwischen dem Maßunterschied und dem Designunterschied wird während eine ausgerichtete Position Markierung des Unterschiedes zwischen das undurchlässige Muster und das Phase Verschiebung Muster in einem Bezugsmuster eingestellt, das später in der Kontrolle benutzt wird. In dieser Weise indem man eine Musterdaten in Bezug auf die anderen Musterdaten im Bezugsmuster behebt, kann die Versetzung, die in den beiden Mustern erzeugt wird, reflektiert werden, und die Bezugsmusterdaten betreffend sind ein Bild einer Probe, die wirklich beobachtet wird, können verursacht werden.
