A method for the manufacture of optical components, at least one three-dimensional optical waveguide structure being produced in a light-sensitive substrate by locally subjecting the substrate to an exposure so that a difference in refractive index between the substrate and the at least one optical waveguide structure is created. Provision is made for an exposure to occur at least twice, at different angles of incidence for the light perpendicular to a light wave propagation direction of the optical waveguide structure; the substrate surrounding what will later be the optical waveguide structure thereby experiences a diminution in refractive index, the optical waveguide structure being defined using a mask.

Eine Methode für die Herstellung der optischen Bestandteile, mindestens eine dreidimensionale optische Wellenleiterstruktur, die in einem lichtempfindlichen Substrat produziert wird, durch das Substrat einer Belichtung am Ort unterwerfen, damit ein Unterschied bezüglich Brechungsindex zwischen dem Substrat und der mindestens einer optischen Wellenleiterstruktur verursacht wird. Vorkehrungen werden für eine Aussetzung, in den unterschiedlichen Einfallswinkeln für das Lichtsenkrechte mindestens zweimal aufzutreten zu einer hellen Welle Ausbreitungrichtung der optischen Wellenleiterstruktur getroffen; das Substratumgeben was später die optische Wellenleiterstruktur dadurch ist, erfährt eine Verminderung in Brechungsindex, die optische Wellenleiterstruktur, die mit einer Schablone definiert wird.