A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.

Een structuur voor patroonvorming die voor optisch het vormen van een patroon wordt aangepast, dat door te bestaan uit wordt gekenmerkt: een photocatalyst-bevat laag die op een substraat, de photocatalyst-bevat laag wordt verstrekt die een materiaal bevat waarvan de bevochtigbaarheid door photocatalytic actie op patroon-wijze blootstelling veranderlijk is.