An injector system for a vertical furnace which has a pedestal and a semiconductor article support within a process container. The injector system includes an injector which is an elongate tube extending into the process chamber. The tube includes a circuitous section in the area of the pedestal to increase residence time for the contents of the tube prior to introduction to the semiconductor articles. A substantially direct section leads from the circuitous section to a discharge end located above the semiconductor article support. The injector system further includes a vertical column heater arranged with the vapor outlet at the upper end of the heater connected via a coupling to the injector in an arrangement to reduce thermal loss.

Een injecteurssysteem voor een verticale oven die een voetstuk en een steun van het halfgeleiderartikel binnen een procescontainer heeft. Het injecteurssysteem omvat een injecteur die een uitgerekte buis zich uitbreidt in de proceskamer is. De buis omvat een omslachtige sectie op het gebied van het voetstuk om woonplaatstijd voor de inhoud van de buis voorafgaand aan inleiding tot de halfgeleiderartikelen te verhogen. Een wezenlijk directe sectie leidt van de omslachtige sectie tot een lossingseind dat boven de steun van het halfgeleiderartikel wordt gevestigd. Het injecteurssysteem omvat verder een verticale kolomverwarmer die met de dampafzet op het hogere eind van de verwarmer wordt geschikt die via een koppeling met de injecteur wordt verbonden in een regeling thermisch verlies te verminderen.