Processing methods and systems using vapor phase processing streams made from a liquid phase source and feed gas. Some versions use multiple liquid sources and multiple vapor generators which each produce vapors which are mixed. Some of the vapor generators use metering pumps to inject a controlled flow of liquid into a controlled flow of feed gas. In some embodiments the vapors are exsiccated to reduce saturation before being introduced as a processing chamber vapor mixture into a processing chamber. The semiconductor pieces are preferably rotated within the processing chamber and can be processed in batches.

Die Verarbeitungsmethoden und Systeme, die Dampf verwenden, teilen die Verarbeitung der Ströme ein, die von einem flüssigen Phase Quell- und Zufuhrgas gebildet werden. Einige Versionen benutzen mehrfache flüssige Quellen und mehrfache Dampfgeneratoren, die jedes Erzeugnis vapors, die gemischt werden. Einige der Dampfgeneratoren benutzen Dosierpumpen, um einen kontrollierten Fluß der Flüssigkeit in einen kontrollierten Fluß des Zufuhrgases einzuspritzen. In einigen Verkörperungen, welche die Dämpfe sind, exsiccated, um Sättigung zu verringern, bevor während eine verarbeitenraumdampfmischung in einen verarbeitenraum eingeführt werden. Die Halbleiterstücke werden vorzugsweise innerhalb des verarbeitenraumes gedreht und können in den Reihen verarbeitet werden.