A method for making a semiconductor device is disclosed which comprises the step of applying a functional layer on a substrate, characterized in that said substrate is a laminate which comprises a support and a glass layer, said glass layer having a thickness of less than 700 .mu.m. The support is preferably a plastic foil. The laminate has the combined benefits of low weight and high strength and is therefore a suitable substrate for making flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays, field emission displays or organic light-emitting polymer displays. Preferred examples of the functional layer are e.g. electroconductive layers, liquid crystal orientation layers, color filters, electroluminescent layers, passivation layers and phosphor layers.

On révèle une méthode pour faire un dispositif de semi-conducteur qui comporte l'étape d'appliquer une couche fonctionnelle sur un substrat, caractérisé en ce que ledit substrat est un stratifié qui comporte un appui et une couche de verre, couche de verre ayant une épaisseur moins du mu.m de 700. L'appui est de préférence un clinquant en plastique. Le stratifié a les avantages combinés du bas poids et le de haute résistance et est donc un substrat approprié pour faire les affichages sur écran plat tels que les affichages à cristaux liquides, les affichages de plasma, les affichages d'émission de champ ou les affichages luminescents organiques de polymère. Les exemples préférés de la couche fonctionnelle sont par exemple des couches électroconductrices, des couches liquides d'orientation en cristal, des filtres de couleur, des couches électro-luminescentes, des couches de passivation et des couches de phosphore.