A microbubble preparation formed of a plurality of microbubbles comprising a first gas and a second gas surrounded by a membrane such as a surfactant, wherein the first gas and the second gas are present in a molar ratio of from about 1:100 to about 1000:1, and wherein the first gas has a vapor pressure of at least about (760-x) mm Hg at 37.degree. C., where x is the vapor pressure of the second gas at 37.degree. C., and wherein the vapor pressure of each of the first and second gases is greater than about 75 mm Hg at 37.degree. C.; also disclosed are methods for preparing microbubble compositions, including compositions that rapidly shrink from a first average diameter to a second average diameter less than about 75% of the first average diameter and are stabilized at the second average diameter; kits for preparing microbubbles; and methods for using such microbubbles as ultrasound contrast agents.

Подготовка microbubble сформировала множественности microbubbles состоя из первого газа и второго газа окруженных мембраной such as сурфактант, при котором первый газ и второй газ присутствуют в молярном коэффициенте от около 1:100 до около 1000:1, и при котором первый газ имеет давление пара по крайней мере около (760-x) ммий рт. ст. на 37.degree. C, где х будет давление пара второго газа на 37.degree. C, и при котором давлением пара каждого из первых и вторых газов будет greater than около 75 ммий рт. ст. на 37.degree. C; также показаны методы для подготовлять составы microbubble, включая составы которые быстро сжимают от первого диаметра среднего к второму диаметру более менее чем около 75% среднего первого диаметра среднего и стабилизированы на втором диаметре среднего; наборы для подготовлять microbubbles; и методы для использования таких microbubbles как вещества контраста ультразвука.

 
Web www.patentalert.com

< Flexible switch members for hand activation handpiece switches

< Cell culture apparatus and methods of use

> Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

> Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases

~ 00032