The present invention is directed to a particle beam processing apparatus that is smaller in size and operates at a higher efficiency. The processing apparatus includes a particle beam generating assembly, a foil support assembly, and a processing assembly. In the particle beam generating assembly, a cloud of particles, for example, electrons, are generated by heating at least one tungsten filament. The electrons are then extracted to travel at a high speed to the foil support assembly which is set at a much lower voltage than the particle beam generating assembly. A substrate is fed to the processing apparatus through the processing zone and is exposed to the electrons exiting the particle beam generating assembly and entering the processing zone. The electrons penetrate and cure the substrate causing a chemical reaction, such as polymerization, cross-linking, or sterilization.

De onderhavige uitvinding wordt geleid aan een de verwerkingsapparaat van de deeltjesstraal dat kleiner is in grootte en werkt bij een hogere efficiency. Het verwerkingsapparaat omvat een deeltjesstraal die assemblage, een assemblage van de foliesteun, en een verwerkingsassemblage produceert. In de deeltjesstraal die assemblage produceert, wordt een wolk van deeltjes, bijvoorbeeld, elektronen, geproduceerd door minstens één wolframgloeidraad te verwarmen. De elektronen worden dan gehaald om bij een hoge snelheid naar de assemblage van de foliesteun te reizen die bij een veel lager voltage dan de deeltjesstraal geplaatst wordt die assemblage produceert. Een substraat wordt gevoed aan de verwerkingsapparaten door de verwerkingsstreek en aan de elektronen die de deeltjesstraal weggaan die assemblage produceert blootgesteld en de verwerkingsstreek ingaat. De elektronen doordringen en genezen het substraat veroorzakend een chemische reactie, zoals polymerisatie, het cross-linking, of sterilisatie.