In a method for rinsing and drying a semiconductor workpiece in a micro-environment, the workpiece is placed into a rinser/dryer housing. The rinser/dryer housing is rotated by a rotor motor. The rinser/dryer housing defines a substantially closed rinser/dryer chamber. Rinsing and drying fluids are distributed across at least one face of the semiconductor workpiece by the action of centrifugal force generated during rotation of the housing. A fluid supply system is connected to sequentially supply a rinsing fluid followed by a drying fluid to the chamber as the housing is rotated.

Dans une méthode pour rincer et sécher un objet de semi-conducteur dans un micro-environnement, l'objet est placé dans un logement de rinser/dryer. Le logement de rinser/dryer est tourné par un moteur de rotor. Le logement de rinser/dryer définit une chambre essentiellement fermée de rinser/dryer. Le rinicage et sécher des fluides sont distribués à travers au moins un visage de l'objet de semi-conducteur par l'action de la force centrifuge produite pendant la rotation du logement. Un circuit d'alimentation liquide est relié pour fournir séquentiellement un fluide de rinicage suivi d'un fluide de séchage à la chambre pendant que le logement est tourné.