This invention pertains to a method for the systematic development of integrated chip technology. The method may include obtaining empirical data of parameters for an existing integrated circuit manufacturing process and extrapolating the known data to a new technology to assess potential yields of the new technology from the known process. Further, process variables of the new process may be adjusted based upon the empirical data in order to optimize the yields of the new technology. A logic based computing system such as a fuzzy logic or neural-network system may be utilized. The computing system may also be utilized to improve the yields of an existing manufacturing process by adjust process variables within downstream process tools based upon data collected in upstream process for a particular semiconductor substrate or lot.

Deze uitvinding behoort tot een methode voor de systematische ontwikkeling van geïntegreerde spaandertechnologie. De methode kan het verkrijgen van empirische gegevens van parameters voor een bestaand productieproces omvatten van geïntegreerde schakelingen en het extrapoleren van de bekende gegevens aan een nieuwe technologie om potentiële opbrengsten van de nieuwe technologie van het bekende proces te beoordelen. Verder, kunnen de procesvariabelen van het nieuwe proces worden aangepast gebaseerd op de empirische gegevens om de opbrengsten van de nieuwe technologie te optimaliseren. Een logica gebaseerd gegevensverwerkingssysteem zoals een verwarde logica of neuraal-netwerksysteem kan worden gebruikt. Het gegevensverwerkingssysteem kan ook worden gebruikt om de opbrengsten van een bestaand productieproces te verbeteren aanpast langs procesvariabelen binnen stroomafwaartse proceshulpmiddelen die op gegevens worden gebaseerd die in stroomopwaarts proces worden verzameld een bepaalde halfgeleidersubstraat of een partij.