A semiconductor wafer including an NMOS device and a PMOS device. The NMOS
device is formed to have a high-K gate dielectric and the PMOS device is
formed to have a standard-K gate dielectric. A method of forming the NMOS
device and the PMOS device is also disclosed.
Une gaufrette de semi-conducteur comprenant un dispositif de NMOS et un dispositif de PMOS. Le dispositif de NMOS est formé pour avoir un haut-K diélectrique de porte et le dispositif de PMOS est formé pour avoir un diélectrique standard-K de porte. Une méthode de former le dispositif de NMOS et le dispositif de PMOS est également révélée.