A wafer positioning checking system used in a vertical furnace as found in a semiconductor manufacturing facility for manufacturing chips. The system utilizes a first sensor such as a photoelectric or laser sensor that checks the peripheral alignment of the wafers loaded in the boat. A second sensor is mounted on a robot having a wafer-handling arm for checking the position of a wafer that has just been loaded into the boat. An algorithm in a control unit responds to electrical signals generated by these two sensors to allow the loading operation to continue as long as the wafers are properly positioned and to controllable monitoring the wafers during a portion of the processing.

Una cialda che posiziona controllando il sistema usato in una fornace verticale come trovata in una funzione di manufacturing a semiconduttore per vedere se c'è il manufacturing scheggia. Il sistema utilizza un primo sensore quale un sensore del laser o fotoelettrico che controlla l'allineamento periferico delle cialde caricate nella barca. Un secondo sensore è montato su un robot che ha un braccio dimaneggiamento per il controllo della posizione di una cialda che è stata caricata appena nella barca. Una procedura in un'unità di controllo risponde ai segnali elettrici generati da questi due sensori per permettere che il funzionamento di caricamento continui finchè le cialde sono posizionate correttamente e su controllabile controllando le cialde durante la parte dell'elaborazione.