A method and article of manufacture of amorphous diamond-like carbon. The method involves providing a substrate in a chamber, providing a mixture of a carbon containing gas and hydrogen gas with the mixture adjusted such that the atomic molar ratio of carbon to hydrogen is less than 0.3, including all carbon atoms and all hydrogen atoms in the mixture. A plasma is formed of the mixture and the amorphous diamond-like carbon film is deposited on the substrate. To achieve optimum bonding an intervening bonding layer, such as Si or SiO.sub.2, can be formed from SiH.sub.4 with or without oxidation of the layer formed.

Un método y un artículo de la fabricación de amorfo diamante-como el carbón. El método implica el proporcionar de un substrato en un compartimiento, proveer de una mezcla de un carbón que contenía el gas y el gas de hidrógeno la mezcla ajustó tales que el cociente molar atómico del carbón al hidrógeno es menos de 0.3, incluyendo todos los átomos de carbón y todos los átomos del hidrógeno en la mezcla. Un plasma se forma de la mezcla y el amorfo diamante-como la película del carbón se deposita en el substrato. Alcanzar el grado óptimo que enlaza una capa de la vinculación que interviene, tal como silicio o SiO.sub.2, se puede formar de SiH.sub.4 con o sin la oxidación de la capa formada.