A method of manufacturing an array of nanostuctures, such as quantum dots, having a controlled diameter and a substrate with an ordered array of nanostructures having a controlled diameter. In a preferred embodiment of the invention, nanoscale features are produced on a substrate by using a porous crystalline protein as a template for preparing an etch/deposition mask having a regular array of nanoscale pores of a diameter different from the protein template. The mask may be used to etch a regular array of nanoscale wells and/or deposit nanoclusters of adatoms on the surface of an underlying substrate. A further embodiment of the invention is a substrate including an ordered array of nanoscale features having a controlled size.

Een methode om een serie van nanostuctures, zoals quantumpunten te vervaardigen, die een gecontroleerde diameter en een substraat met een bevolen serie die van nanostructures hebben een gecontroleerde diameter heeft. In een aangewezen belichaming van de uitvinding, nanoscale worden de eigenschappen veroorzaakt op een substraat door een poreuze kristallijne proteïne te gebruiken aangezien een malplaatje voor voorbereidingen treffen etst masker/depositodie een regelmatige serie van nanoscaleporiën hebben van een diameter verschillend van het eiwitmalplaatje. Het masker kan worden gebruikt om een regelmatige serie van nanoscaleputten en/of stortingsnanoclusters van adatoms op de oppervlakte van een onderliggend substraat te etsen. Een verdere belichaming van de uitvinding is een substraat met inbegrip van een bevolen serie van nanoscaleeigenschappen die een gecontroleerde grootte hebben.