Methods are disclosed for dividing a pattern in a segmented reticle such as
used in charged-particle-beam microlithography. In the methods, the
reticle pattern is divided among multiple subfields delineated by
respective initial subfield-boundary lines. In an exemplary embodiment,
initial subfield-boundary lines are determined by determining respective
extensions of pattern elements in each of the X and Y directions. For
example, if the extension in the Y direction is longer than in the X
direction, then an initial pattern division (including into complementary
subfields as required) is made using the initial subfield-boundary
extending in the X direction. If the pattern exhibits a period repeat in
the Y direction, then the initial subfield-boundary lines are established
at an integer multiple of half the period repeat. The initial
subfield-boundary lines are then corrected by shifting the initial
subfield-boundary lines as required such that the subfield-boundary lines
extend through nearby "significant points" (bend points meeting certain
predetermined criteria) of adjacent pattern elements.
Методы показаны для разделять картину в поделенном на сегменты перекрещении such as после того как они использованы в microlithography поручать-частиц-luca. В методах, координатная сетка разделена среди множественных subfields определенных соответственно первоначально линиями субфиелд-graniqy. В примерном воплощении, первоначально линии субфиелд-graniqy обусловлены путем обусловливать соответственно выдвижения элементов картины в каждом из направлений х и ы. Например, если выдвижение в направление ы более длинне чем в направлении х, то первоначально разделение картины (вклюая в комплементарные subfields как потребовано) делает использующ первоначально субфиелд-graniqu удлиняя в направлении х. Если картина exhibits повторение периода в направлении ы, то первоначально линии субфиелд-graniqy установлены на многократной цепи интежера половины повторения периода. Первоначально линии субфиелд-graniqy после этого исправлены путем переносить первоначально линии субфиелд-graniqy как необходимы таким что линии субфиелд-graniqy проходят через рядом "значительно пункты" (загиб указывает критеря по встречи некоторая предопределенная) смежных элементов картины.
