A method for producing the silicon nanoparticle of the invention is a gradual advancing electrochemical etch of bulk silicon. Separation of nanoparticles from the surface of the silicon may also be conducted. Once separated, various methods may be employed to form nanoparticles into colloids, crystals, films and other desirable forms. The particles may also be coated or doped.

Een methode om het silicium nanoparticle van de uitvinding te produceren is het geleidelijke elektrochemisch vooruitgaan etst van bulksilicium. De scheiding van nanoparticles van de oppervlakte van het silicium kan ook worden geleid. Zodra kunnen gescheiden, diverse methodes worden aangewend om zich nanoparticles in colloïden, kristallen, films en andere wenselijke vormen te vormen. De deeltjes kunnen ook worden met een laag bedekt of worden gesmeerd.