The present invention provides integrated circuit fabrication methods and
devices wherein dual damascene structures are formed which compensate for
misalignment between the via pattern and the trench pattern by widening
the trench at the point where the misalignment has occurred. Methods and
devices are also provided wherein the trench width is not affected by
misalignment thus preventing electrical shorts between closely spaced
interconnect lines, this technique results in a reduction of the width of
the via. These dual damascene structures utilize two dielectric layers
(210 and 216) having similar etching characteristics. Additionally, a hard
mask layer (218) and an etch stop layer (214) having similar etching
characteristics are used in these structures. In additional embodiments,
manufacturing systems (610) are provided for fabricating IC structures.
These systems include a controller (600) for interacting with a plurality
of fabrication stations (620, 622, 624, 626, 628, 630 and 632).
La actual invención proporciona métodos y los dispositivos de la fabricación del circuito integrado en donde se forman las estructuras damasquinas duales que compensan para el desalineamiento entre vía patrón y el patrón del foso ensanchando el foso en el punto donde ha ocurrido el desalineamiento. Los métodos y los dispositivos también se proporcionan en donde la anchura del foso no es afectada por el desalineamiento que previene así cortocircuitos eléctricos entre las líneas de cerca espaciadas de la interconexión, los resultados de esta técnica en una reducción de la anchura del vía. Estas estructuras damasquinas duales utilizan dos capas dieléctricas (210 y 216) que tienen características similares de la aguafuerte. Además, una capa dura de la máscara (218) y una capa de la parada del grabado de pistas (214) que tiene características similares de la aguafuerte se utilizan en estas estructuras. En encarnaciones adicionales, los sistemas de fabricación (610) se proporcionan para las estructuras del IC que fabrican. Estos sistemas incluyen un regulador (600) para obrar recíprocamente con una pluralidad de las estaciones de la fabricación (620, 622, 624, 626, 628, 630 y 632).
