The present invention relates to the production of highly efficient films for field-effect electron emitters, wherein said films may be used in the production of flat displays, in electronic microscopes, in microwave electronics, in light sources as well as in various other applications. This invention more precisely relates to a cold cathode that comprises a substrate having a carbon film applied thereto. The carbon film has an irregular structure consisting of carbon micro-ridges and/or micro-threads which are perpendicular to the surface of the substrate, have a size ranging typically from 0.01 to 1 microns and a distribution density of between 0.1 and 10 .mu.m.sup.2. This invention also relates to method for producing a cold electrode, wherein said method comprises generating a DC current discharge in a mixture comprising hydrogen and a carbon-containing additive, and further depositing the carbon phase on the substrate located at the anode. This method is characterized in that the discharge is generated at a current density of between 0.15 and 0.5 A/cm.sup.2. The deposition process is carried out in a mixture containing hydrogen and vapors of ethylic alcohol or methane, under an overall pressure of between 50 and 300 Torrs and at a substrate temperature of between 600 and 900.degree. C. The concentration of ethylic alcohol vapors ranges from 5 to 10% while that of methane vapors ranges from 15 to 30%. This invention also relates to another method for producing a cold cathode, wherein said method comprises generating a microwave discharge at an absorbed power of between 100 and 1000 W. This discharge is generated in a mixture containing gaseous carbon oxide as well as methane in an 0.8-1.2 concentration and under a pressure of between 10 and 200 Torrs, the carbon phase being further deposited on the substrate. This method is characterized in that the deposition process is carried out at a temperature on the substrate surface that ranges from 500 to 700.degree. C.

La actual invención se relaciona con la producción de las películas altamente eficientes para los emisores del electrón del efecto de campo, en donde las películas dichas se pueden utilizar en la producción de exhibiciones planas, en microscopios electrónicos, en electrónica de la microonda, en fuentes de luz así como en usos otros. Esta invención se relaciona más exacto con un cátodo frío que abarque un substrato que hace una película del carbón aplicar además. La película del carbón tiene micro-cantos de un carbón de la estructura que consisten en irregular y/o micro-rosca que sean perpendiculares a la superficie del substrato, tiene un tamaño el extenderse típicamente a partir 0.01 a 1 micrón y una densidad de la distribución entre del mu.m.sup.2 0.1 y 10. Esta invención también se relaciona con el método para producir un electrodo frío, en donde el método dicho abarca la generación de una descarga actual de la C.C. en una mezcla que abarca el hidrógeno y un añadido carbo'n-que contiene, y más futuro depositando la fase del carbón en el substrato situado en el ánodo. Este método se caracteriza en que la descarga está generada en una densidad corriente entre de 0.15 y 0.5 A/cm.sup.2. El proceso de la deposición se realiza en una mezcla que contiene el hidrógeno y los vapores del alcohol o del metano etílico, bajo presión total de entre 50 y 300 Torrs y en una temperatura del substrato entre de 600 y de 900.degree. C. La concentración de los vapores etílicos del alcohol se extiende a partir del 5 hasta el 10% mientras que la de los vapores del metano se extiende a partir del 15 hasta el 30%. Esta invención también se relaciona con otro método para producir un cátodo frío, en donde el método dicho abarca la generación de una descarga de la microonda en una energía absorbida entre de W 100 y 1000. Esta descarga se genera en una mezcla que contiene el óxido gaseoso del carbón así como el metano en una 0.8-1.2 concentración y bajo presión de entre 10 y 200 Torrs, la fase del carbón que es depositada más a fondo en el substrato. Este método se caracteriza en que el proceso de la deposición está realizado en una temperatura en la superficie del substrato que se extiende a partir del 500 a 700.degree. C.