The thin film disk includes a pre-seed layer of amorphous or nanocrystalline structure which may be CrTa or AlTi or AlTa, and that is deposited upon a disk substrate. The pre-seed layer is followed by the RuAl seed layer, a Cr alloy underlayer, an onset layer composed essentially of CoCr and a magnetic layer. The onset layer has an optimal concentration of 28-33 at. % Cr and an optimal thickness of 0.5 to 2.5 nm and it increases coercivity and improves the Signal-to-Noise Ratio (SNR) of the disk.

Le disque de la couche mince inclut une couche de pré-graine de structure amorphe ou de nanocrystalline qui peut être CrTa ou AlTi ou Alta, et cela est déposé sur un substrat de disque. La couche de pré-graine est suivie de la couche de graine de RuAl, d'un underlayer d'alliage de Cr, d'une couche de début composée essentiellement de CoCr et d'une couche magnétique. La couche de début a une concentration optimale de 28-33 chez % de Cr et une épaisseur optimale de 0.5 à 2.5 nm et lui augmente le coercivity et améliore le rapport de Signal-à-Bruit (SNR) du disque.