A transparent conductive laminate in which a crystalline transparent conductive film substantially made of In--Sn--O on a transparent substrate composed of a thermoplastic polymer film, is provided. The crystalline part of the transparent conductive film (ITO-film) has a specific crystalline structure in which the X-ray diffraction intensity from the (222) crystal plane or the (440) crystal plane is highest, and [X.sub.440/222 ], the ratio of the X-ray diffraction intensity from the (440) crystal plane to that from the (222) crystal plane, is within the range of 0.2 to 2.5. The laminate has a low resistivity, and it is useful as an electrode material for a liquid crystal display, an electroluminescence device, a touch panel or the like. The transparent conductive laminate can be manufactured by combining the control of film fabricating atmosphere during sputtering and a heat treatment under specific conditions after film fabricating.

Se proporciona un laminado conductor transparente en el cual una película conductora transparente cristalina hizo substancialmente en -- sn -- de O en un substrato transparente compuso de una película termoplástica del polímero. La parte cristalina de la película conductora transparente (ITO-peli'cula) tiene una estructura cristalina específica de la cual la intensidad de la difracción de radiografía (de los 222) planos cristalinos o (de los 440) planos cristalinos sea la más alta, y [ X.sub.440/222 ], el cociente de la intensidad de la difracción de radiografía (de los 440) planos cristalinos a eso (de los 222) planos cristalinos, está dentro de la gama de 0.2 a 2.5. El laminado tiene una resistencia baja, y es útil como material del electrodo para un indicador de cristal líquido, un dispositivo del electroluminescence, un panel de tacto o los similares. El laminado conductor transparente puede ser fabricado combinando el control de la atmósfera que fabrica de la película durante la farfulla y un tratamiento de calor bajo condiciones específicas después de fabricar de la película.